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半导体制造过程中,含氟废水主要来源于芯片加工的刻蚀与清洗环节。在晶圆制造阶段,需使用氢氟酸(HF)、氟化铵(NH₄F)等氟基化学品进行精细刻蚀和表面清洗,从而产....
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